关于国产EUV光刻机的消息： 中芯国际已预留产能，等待国产EUV光源的正式投产。 华特气体的高纯钼材料订单增加了五倍，显示国产光刻机对本土供应链的积极影响。 之前有外媒报道，国产EUV光刻机预计三季度进入试生产阶段，光源稳定性连续100小时波动仅0.8%，优于ASML最新机型，设备体积缩小至三分之一，已获专利并延长光刻镜使用寿命至1000小时。 这几年来，国内官方机构多次披露EUV光刻机信息： 2021年，EUV光源和双工件台系统取得了显著进展。 2021年，成功研制了直线式劳埃透镜镀膜装置和纳米聚焦镜镀膜装置，满足了EUV光刻镜头的高制程需求。 2022年，国内首台高能同步辐射光源设备的安装和运行，为EUV光刻技术提供了重要的技术支撑。 2022年，EUV光刻镜头的镜面光洁度达到极高标准（不超过50皮米），完成我国在实现高端芯片制程中的最后一个关键挑战。 至今，我国终于实现最高端的EUV光刻机国产化，之前外国人说给我们图纸也造不出来光刻机，现在光刻机已经复制了盾构机的路线，再一次创造了他们认为不可能创造的奇迹。